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碳化硅微粉:噴砂與磨料行業(yè)中的明星材料[
07-10 10:23
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引言
在現(xiàn)代工業(yè)的精密工藝中,碳化硅(SiC)微粉作為一種高性能的非氧化物陶瓷材料,正以其卓越的物理與化學(xué)特性,引領(lǐng)著噴砂和磨料技術(shù)的革新潮流。
碳化硅微粉的魅力
碳化硅微粉,以其高達(dá)莫氏硬度9.5的堅(jiān)硬質(zhì)地,以及出色的耐磨性和耐高溫能力,成為工業(yè)界不可或缺的材料之一。其在噴砂與磨料行業(yè)中的表現(xiàn),更是令人矚目。
高效精準(zhǔn)的噴砂工藝
噴砂技術(shù),通過壓縮空氣將磨料高速噴射至工件表面,實(shí)現(xiàn)去污、除銹及表面預(yù)處理的目的。選用碳化硅微粉作為噴砂介質(zhì),不僅因它的高硬度確保了快速有效的表面處理,還能顯著降低磨料的損耗率
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碳化硅、白剛玉等磨料微粉是如何進(jìn)行顆粒整形?[
11-02 16:00
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隨著新材料產(chǎn)業(yè)的發(fā)展、傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)品升級(jí),工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)粉體原料提出越來越高的要求
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大面積碳化硅陶瓷膜層化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)[
08-23 16:25
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光刻機(jī)等集成電路關(guān)鍵制造裝備中某些高性能光學(xué)元件對(duì)材料制備有著苛刻的要求,不僅要求材料具有高的穩(wěn)定性,還需滿足某些特定的光學(xué)性能要求。反應(yīng)燒結(jié)碳化硅經(jīng)拋光后其面型精度高,但是該材料是由碳化硅和游離硅組成的兩相材料,在研磨拋光等過程各相的去除速率不一致,無法達(dá)到更高的面型精度,因此無法滿足特定光學(xué)部件性能要求。
采用反應(yīng)燒結(jié)碳化硅基體結(jié)合化學(xué)氣相沉積碳化硅(CVDSiC)膜層的方法制備高性能反射鏡,通過優(yōu)化先驅(qū)體種類、沉積溫度、沉積壓力、反應(yīng)氣體配比、氣體流場(chǎng)、溫度場(chǎng)等關(guān)鍵工藝參數(shù),可實(shí)現(xiàn)大面積、均勻CVDSi
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碳化硅陶瓷反應(yīng)連接技術(shù)[
08-22 17:23
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全封閉、中空部件的制備一般采用連接工藝獲得,目前常用的陶瓷連接方法主要有釬焊、擴(kuò)散焊等,但這些方法均存在工藝復(fù)雜、焊接料性能同碳化硅基體差別大等缺點(diǎn),難以滿足光刻機(jī)等集成電路制造裝備對(duì)復(fù)雜結(jié)構(gòu)部件的使用要求。
根據(jù)反應(yīng)燒結(jié)碳化硅的工藝特點(diǎn),將待粘接零部件進(jìn)行預(yù)處理,并通過粘接料對(duì)制品進(jìn)行粘接,隨后再進(jìn)行反應(yīng)燒結(jié),使制品的連接與反應(yīng)燒結(jié)同步完成。通過調(diào)節(jié)粘接料的組分、控制連接工藝,可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)部件的致密、高強(qiáng)度、無縫隙粘接。
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高精度碳化硅陶瓷制品無模成型工藝[
08-20 16:21
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雖然采用凝膠注模成型工藝可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜形狀陶瓷制品的近凈尺寸制備,但該工藝對(duì)模具要求高,在制備復(fù)雜大尺寸部件時(shí)需設(shè)計(jì)和制造模具,增加了時(shí)間成本和模具成本,一定程度上制約了該工藝在陶瓷結(jié)構(gòu)件批量化生產(chǎn)中的應(yīng)用。另一方面,對(duì)一些尺寸精度要求高的陶瓷部件,凝膠注模成型工藝則無法滿足其尺寸精度要求。
與傳統(tǒng)“自下而上”的無模成型工藝不同,陶瓷素坯加工工藝(Greenceramicmachining,GCM)是一種“自上而下”的工藝,其原理類似金屬材料或木材的加工過程如車、
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